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更新時間:2025-12-01
瀏覽次數(shù):3在高密度半導體、先的進封裝、微電子器件及MEMS(微機電系統(tǒng))等尖的端制造領域,材料的精密制備是決定最終產品性能與可靠性的基礎環(huán)節(jié)。其中,漿料、封裝樹脂、粘合劑、絕緣介質等材料的均勻混合與徹的底脫泡,是工藝中至關重要且技術難度較高的步驟。日本EME株式會社推出的V-mini330自轉公轉式真空攪拌脫泡混合機,便是為滿足此類高要求、小批量、精密化的材料處理需求而設計的專業(yè)設備。
隨著半導體器件向更高集成度、更小線寬和三維堆疊結構發(fā)展,對所使用的電子化學品和封裝材料的均勻性、無缺陷性提出了近乎苛刻的要求。材料中即使存在微米級的氣泡或納米級的團聚顆粒,也可能導致布線短路、導熱不均、機械強度下降等致命缺陷。傳統(tǒng)的攪拌機或離心脫泡機在處理這些高粘度、高密度、含有精細填料的特種材料時,往往在均質效果、脫泡效率或對材料的低損傷性方面難以兼顧。
V-mini330的核心定位,正是解決上述矛盾。它是一款集“自轉公轉攪拌"與“真空脫泡"功能于一體的小型臺式精密混合設備,其處理能力(最的大330毫升的容器)明確指向了研發(fā)、小規(guī)模試制、珍貴樣品制備等高附加值場景。
該設備的核心技術在于其獨特的“自轉公轉"行星運動模式,這構成了其高效混合與脫泡能力的物理基礎。
運動分解:設備工作時,承載物料容器的托盤進行“公轉"(Revolution),即圍繞設備中心軸做圓周運動。同時,每個容器在托盤的驅動下,又繞自身中心軸進行“自轉"(Rotation)。這兩種旋轉運動的速度獨立可調。
混合效應:這種復合運動在容器內產生了復雜且不斷變化的流場。物料在離心力(由公轉產生)和摩擦力(由容器壁與物料間產生)的共同作用下,不斷地被拉伸、折疊、剪切和擴散。這種三維空間內的強效對流,能夠高效地打破顆粒團聚,使不同成分、不同密度(如重質金屬填料與輕質樹脂)的物料實現(xiàn)從宏觀到微觀的均勻分布,有效防止了比重偏析。
脫泡機理:在真空環(huán)境下進行上述混合,是脫泡的關鍵。首先,設備腔室被抽至較高真空度,顯著降低了氣泡內部氣壓,使得氣泡易于膨脹和上浮。其次,劇烈的自轉公轉運動產生的離心力,將物料拋向容器外壁,將氣泡“擠壓"并向中心區(qū)域(低壓區(qū))聚集。同時,復雜的流場不斷將深層的氣泡帶到物料表面。在真空和離心力的雙重作用下,氣泡被迅速分離并破碎,通過真空管路被排出。
基于上述原理,V-mini330在設計中體現(xiàn)了針對精密材料處理的諸多考量。
緊湊精密的機械結構:
作為小型臺式機,它注重空間效率。其驅動系統(tǒng)需確保自轉與公轉速度的獨立精確控制與長期運行穩(wěn)定性,這對軸承、齒輪和電機的精度提出了要求。
通常采用觸摸屏界面,允許用戶精確設定并存儲轉速、時間、真空度等工藝參數(shù),實現(xiàn)過程的可重復性。
高效的真空系統(tǒng):
集成或外接真空泵,能夠快速將混合腔室抽至較低的絕的對壓力水平(例如可達數(shù)百帕斯卡量級)。良好的密封設計是維持工作真空度的保證。
真空系統(tǒng)與攪拌運動的聯(lián)動控制是標準功能,允許用戶設定在特定真空度下開始攪拌,或在不同階段采用不同的真空條件。
廣泛的物料與容器適應性:
設備設計兼容多種規(guī)格和材質的樣品杯或容器,以適應從低粘度液體到高粘度膏狀物的不同物料。
針對腐蝕性或敏感材料,可提供相應材質的容器和槳葉選項。
工藝參數(shù)的可控性與可重復性:
自轉速度與公轉速度的獨立無級調節(jié)是關鍵。用戶可以通過調整速度組合,來優(yōu)化對不同粘度、不同配比物料的混合與脫泡效果。較高的轉速比通常產生更強的剪切力,適用于分散;較低的轉速比則更傾向于溫和的混合。
時間、順序(如先常壓混合再抽真空,或全程真空)、真空度均可編程控制,便于探索和固化最的優(yōu)工藝窗口。
V-mini330的設計特性使其特別適用于以下領域:
高密度半導體封裝:用于混合底部填充膠(Underfill)、模塑料(EMC)、導熱膠、導電銀漿等。徹的底去除氣泡對防止封裝后空洞至關重要。
芯片級封裝與晶圓級封裝:處理用于再布線層(RDL)、凸點下金屬化(UBM)、臨時鍵合等的精密漿料和聚合物材料。
功率器件制造:混合用于散熱基板粘貼的導熱絕緣膠、燒結銀漿等。
先的進顯示技術:制備用于量子點、Micro-LED轉移的粘接材料或封裝材料。
特種陶瓷與電子漿料:用于MLCC(多層陶瓷電容器)、LTCC(低溫共燒陶瓷)等元件的電極漿料、介質漿料的均質化處理。
高校與研究機構:在新材料(如納米復合材料、功能性墨水)的研發(fā)與配方調試階段,進行小批量、高效率的混合實驗。
在評價或使用此類設備時,需持有客觀的技術視角。
容量與規(guī)模限制:V-mini330的設計容量明確針對研發(fā)與小批量生產。對于大規(guī)模量產,需要選擇容量更大的型號或考慮其他批量化技術路線。
工藝開發(fā)的重要性:設備提供了強大的工具,但并非“一鍵即可"獲得完的美結果。最的優(yōu)的自轉/公轉速度、時間、真空曲線需要根據(jù)具體物料的流變特性進行實驗確定。不當?shù)膮?shù)可能造成過度剪切導致材料變性,或脫泡不徹的底。
清潔與維護:處理高粘度或固化性材料后,容器的清潔可能較為繁瑣,需要建立有效的清潔規(guī)程以防交叉污染。設備的運動部件和真空密封件需要定期維護以保持性能。
物料特性影響:對于含有極硬磨料顆粒或纖維狀填料的物料,需要考慮其對容器和內壁的磨損。對于對氧或水分極度敏感的材料,需評估設備真空系統(tǒng)的極限和保護氣體置換功能是否滿足要求。
日本EME的V-mini330自轉公轉式真空攪拌脫泡混合機,是一款基于成熟物理原理并進行了精密工程化設計的專用設備。它通過自轉與公轉的復合運動,結合可控的真空環(huán)境,為解決高密度半導體及相關領域高的端電子材料制備中的均勻混合與高效脫泡難題,提供了一個被行業(yè)所認可的技術方案。其價值在于為研發(fā)和試制階段提供了一個工藝參數(shù)高度可控、處理效果穩(wěn)定、樣品適應性強的實驗與小型生產平臺。用戶通過系統(tǒng)性的工藝開發(fā),能夠借助此設備充分釋放材料的性能潛力,為后續(xù)的產業(yè)化應用奠定堅實的前期基礎。它代表了一種面向精密制造的、強調過程控制與可重復性的工程思維方式。
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