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      KLA Corporation FILMETRICS F30 系列 監(jiān)控薄膜沉積,最的強的有力的工具

      更新時間:2024-04-13      瀏覽次數(shù):477

      KLA Corporation FILMETRICS F30 系列 監(jiān)控薄膜沉積,最的強的有力的工具

      在線厚度測量系統(tǒng)

      監(jiān)測控制生產(chǎn)過程中移動薄膜厚度。高達100 Hz的采樣率可以在多個測量位置得到

      F30 系列


      監(jiān)控薄膜沉積,最的強的有力的工具

      F30 光譜反射率系統(tǒng)能實時測量沉積率、沉積層厚度、光學(xué)常數(shù) (n 和 k 值) 和半導(dǎo)體以及

      電介質(zhì)層的均勻性。



      樣品層

      分子束外延和金屬有機化學(xué)氣相沉積: 可以測量平滑和半透明的,或輕度吸收的薄膜。 這實

      際上包括從氮化鎵鋁到鎵銦磷砷的任何半導(dǎo)體材料。

      image.png

      各項優(yōu)點:

      • 極大地提高生產(chǎn)力

      • 低成本 —幾個月就能收回成本

      • A精確 — 測量精度高于 ±1%

      • 快速 — 幾秒鐘完成測量

      • 非侵入式 — 完的全的沉積室以外進行測試

      • 易于使用 — 直觀的 Windows™ 軟件

      • 幾分鐘就能準(zhǔn)備好的系統(tǒng)

      型號規(guī)格

      *取決于薄膜種類

      型號

      厚度范圍*波長范圍
      F3015nm-70µm380-1050nm
      F30-EXR15nm - 250µm380-1700nm
      F30-NIR100nm - 250µm950-1700nm
      F30-UV3nm-40µm190-1100nm
      F30-UVX3nm - 250µm190-1700nm
      F30-XT0.2µm - 450µm1440-1690nm


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